फैक्टरी अनुकूलन के साथ प्रयोगशाला आटोक्लेव

यह CO2 CO2 कमी, CO2 CO2 में मेथनॉल में कमी, मीथेन CH4 में CO2 CO2 की कमी, NOx की कमी और गिरावट, फॉर्मलाडेहाइड के उच्च दबाव वाले फोटोकैटलिटिक गिरावट, और इसी तरह के फोटोकैमिकल उच्च दबाव प्रतिक्रियाओं के लिए उपयुक्त है।फोटोकैटलिटिक प्रतिक्रियाएँ, फिशर-ट्रॉप्स प्रतिक्रियाएँ, हाइड्रोजनीकरण प्रतिक्रियाएँ, पोलीमराइज़ेशन प्रतिक्रियाएँ, सजातीय प्रतिक्रियाएँ और CO2 सुपरक्रिटिकल प्रतिक्रियाएँ रासायनिक प्रतिक्रियाओं के सभी उदाहरण हैं।उत्पाद को एक राष्ट्रीय पेटेंट, पेटेंट संख्या 201003127547.0 प्रदान किया गया है।